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       光學(xué)檢測(cè)高級(jí)培訓(xùn)

一、光學(xué)檢測(cè)的理論、技能及常規(guī)檢測(cè)技術(shù)

1、光學(xué)檢測(cè)的發(fā)展歷史回顧

2、光學(xué)檢測(cè)的物理基礎(chǔ)和計(jì)量基礎(chǔ)

3、光學(xué)檢測(cè)的能力要求

4、光學(xué)材料與元件參數(shù)的檢測(cè)技術(shù)

5、光學(xué)系統(tǒng)性能的檢測(cè)技術(shù)

6、半導(dǎo)體芯片納米制造業(yè)中的在線光學(xué)檢測(cè)

二、激光共焦/干涉測(cè)量新技術(shù)及其應(yīng)用

元部件參數(shù)的高精度、快速檢測(cè)是高性能制造的關(guān)鍵所在，

激光共焦測(cè)量技術(shù)由于具有光學(xué)鄰域獨(dú)特的高分辨、高層析和抗散射能力，

近年來在光學(xué)元件測(cè)量領(lǐng)域開始廣泛應(yīng)用，特別是共焦測(cè)量技術(shù)與干涉測(cè)量技術(shù)的有機(jī)結(jié)合，

顯著提升了光學(xué)元件的測(cè)量精度、測(cè)量速度、抗散射能力以及多參數(shù)測(cè)量能力效率，

使我們?cè)谝慌_(tái)儀器上首次實(shí)現(xiàn)了球面元件面形、曲率半徑、折射率、透鏡中心厚度、焦距及間隔等參數(shù)的高精度高效測(cè)量等，

應(yīng)用前景廣闊。本專題將從共焦測(cè)量和共焦-干涉測(cè)量新原理講解出發(fā)，系統(tǒng)講述測(cè)量系統(tǒng)的構(gòu)建及其典型應(yīng)用實(shí)例，具體包括以下幾節(jié)：

1、激光共焦顯微技術(shù)對(duì)科學(xué)技術(shù)研究的推動(dòng)作用

2、激光差動(dòng)共焦顯微成像技術(shù)及應(yīng)用

3、激光差動(dòng)共焦干涉元件參數(shù)測(cè)量技術(shù)及應(yīng)用

4、激光差動(dòng)共焦光譜聯(lián)用成像技術(shù)及應(yīng)用

三、光干涉檢測(cè)技術(shù)

1、干涉基礎(chǔ)知識(shí)

1）干涉測(cè)量基礎(chǔ)知識(shí)

2）典型干涉儀介紹

3）移相干涉技術(shù)

2、激光干涉儀及應(yīng)用

1）平面干涉儀及其應(yīng)用

2）球面干涉儀及其應(yīng)用

3）非球面干涉檢測(cè)技術(shù)

3、波前的干涉檢測(cè)技術(shù)